英特爾最新工藝路線圖看起來是非常積極的,這是一個四年內(nèi)推進五個制程節(jié)點的計劃。雖然帕特-基爾辛格回歸英特爾擔任CEO以后,藍色巨人的表現(xiàn)有所起色,但鑒于過去多年來的羸弱表現(xiàn),不少人對這份工藝路線圖持保留態(tài)度。
近日,半導體咨詢公司IC Knowledge的總裁Scotten Jones為SemiWiki撰寫了一篇文章,談及了自己對英特爾的計劃從懷疑到獲得信心的過程。
Scotten Jones分析了英特爾、臺積電和三星未來幾年可能的半導體技術研發(fā)情況,認為英特爾隨著更多地使用極紫外(EUV)光刻設備,加上在Intel 20A制程節(jié)點引入RibbonFET和PowerVia兩大突破性技術,將會有一個巨大的突破。預計2024年末英特爾將推出對RibbonFET改進后的Intel 18A,那么很可能在2025年壓倒臺積電的N2制程節(jié)點,取得每瓦性能的領先。
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君の偽中國語本當上手
大伙真是不管多少歲都有一顆叛逆的心啊。