Intel：10nm今年年底即將上架！2021年7nm上馬 Xe獨(dú)立顯卡首發(fā)

　　Intel今天舉行了兩年來(lái)的第一次投資者會(huì)議，新任CEO司睿博親自上陣，向投資者們披露了大量未來(lái)產(chǎn)品和技術(shù)規(guī)劃。

　　首先是工藝方面，Intel承認(rèn)在10nm工藝上冒險(xiǎn)太大，設(shè)置了過(guò)高的技術(shù)指標(biāo)，導(dǎo)致一再延期，未來(lái)會(huì)在新工藝開發(fā)中重新定義預(yù)期指標(biāo)，不一味過(guò)高追求。

　　具體來(lái)說(shuō)，14nm工藝(對(duì)標(biāo)臺(tái)積電10nm)會(huì)繼續(xù)充實(shí)產(chǎn)能，滿足市場(chǎng)需求。10nm工藝(對(duì)標(biāo)臺(tái)積電7nm)消費(fèi)級(jí)產(chǎn)品今年年底購(gòu)物季上架，服務(wù)器端明年上半年。

　　Intel 7nm工藝將對(duì)標(biāo)臺(tái)積電5nm，目前的計(jì)劃是2021年就投產(chǎn)并發(fā)布相關(guān)產(chǎn)品。

　　這距離10nm量產(chǎn)上架還不到兩年時(shí)間，顯然是大大加速了，看起來(lái)Intel真的充分汲取了10nm上的教訓(xùn)，應(yīng)該對(duì)7nm進(jìn)行了調(diào)整，以加速上市。

　　同時(shí)，Intel會(huì)持續(xù)像現(xiàn)在的14nm一樣，對(duì)每一代新工藝持續(xù)進(jìn)行優(yōu)化，也就是會(huì)繼續(xù)出現(xiàn)很多+++版本，但不會(huì)像臺(tái)積電、三星那樣改進(jìn)一下就是新名字(11nm/8nm/6nm)。

　　10nm今年上陣，明后年將接連出現(xiàn)10nm+、10nm++；7nm 2021年登場(chǎng)，2022年、2023年則連續(xù)推出7nm+、7nm++。

　　7nm工藝上Intel會(huì)第一次使用EVU極紫外光刻，但不確定是初代就加入，還是類似臺(tái)積電等待改進(jìn)版的第二代。